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二、神龙见首不见尾的微电子所
那么,中国芯片生产装备研发和制造的重任该谁承担呢?
由于芯片生产装备研发风险巨大、投资巨大,社会企业难以承担,以当前的体制,只能由“国家队”来承担。中国芯片生产装备研发的“国家队”当属中科院微电子研究所。
微电子研究所近30年来又干了什么呢?
1958年,中国科学院109厂创建,面向生产计算机所需的晶体管,1986年,109厂与半导体所、计算所相关部门合并组建微电子中心,2003年9月,正式更名为“中国科学院微电子研究所”。可见,微电子所时间很长、积累很深。
微电子所近年在芯片领域的成果,本院试列一表,如下。
(1)22纳米工艺级别成果
2016年 22纳米集成电路核心工艺2016年北京市科学技术奖一等奖叶甜春,徐秋霞,朱慧珑,陈大鹏,赵超,闫江,王文武,霍宗亮,李俊峰,殷华湘,李东三,张建勇,王敬
2016年 纳米集成电路关键技术及应用2016年中国电子学会科学技术奖技术发明类一等奖叶甜春,徐秋霞,朱慧珑,赵超,张卫,王敬
(2)65-40纳米工艺级别成果
2012年 超大规模集成电路65-40纳米成套产品工艺研发与产业化2012年度北京市科学技术一等奖中芯国际,微电子所(陈岚、叶甜春等)
(3)100纳米工艺级别成果
2009年12月23日 100nm高密度等离子刻蚀机研发与产业化 国家科学技术进步二等奖
2008年12月 100nm高密度等离子刻蚀机研发与产业化北京市科学技术奖一等奖赵晋荣、张伯旭、耿锦启、张建勇、李东三、王宝全、李 兵、孙 岩、张秀川、刘利坚、赵梦欣、南建辉、夏威、白志民、徐华
(4)90-65纳米工艺级别成果
2008年 90-65纳米极大规模集成电路大生产关键技术研究2008年国家科技进步二等奖徐秋霞
2007年 90-65纳米极大规模集成电路大生产关键技术研究2007年教育部科学技术一等奖徐秋霞、叶甜春
(5)180-100纳米工艺级别成果
2002年 0.18/0.1微米CMOS集成电路关键技术 2002年北京市科学技术二等奖 钱 鹤 徐秋霞 刘 明朱亚江 海潮和陈宝钦 韩郑生 陈焕章 李俊峰
2001年 0.18/0.1微米CMOS集成电路关键技术2001年科学技术部“九五”攻关优秀成果奖微电子中心
乍看之下,成果丰硕,覆盖了2000年来芯片工艺进步的各时期特征。不过疑问随之升起:1)既然如此跟踪得紧,那为什么同时期(2000-2016年,180纳米-45纳米)的中国晶圆厂却一直在采购国外同等级设备?2)上述成果,哪些进入了产业环节、上线生产、良品率达到多少?
我们不能怪业界不爱国、不优先采购国产设备和技术,而是这些技术成果只停留在纸面上,成本和良品率都不过关,甚至适应不了工业使用环境,根本没有产业化。
不断跟踪、但总在落后。
而这些落后的成果、不能用的成果,却一再获得大奖!?上述摘出来的五项纸面成果,都是一个项目2次获奖。每次成果发布,上报纸、上电视,一番海吹,欺骗公众的爱国热情。
没有实质性成果,是因为没有时间、没有积累吗,不象。上面列出来的有些成员,连续参与多项成果、最早在1978年就是中国DRAM研发的“主要技术骨干”,1983年出国“学习先进经验”,1986年起一直担任相关项目的负责人计有30年,可谓资深得很、积累丰厚,让国际上卓有成就的一列系列创业公司望尘莫及。“跟踪、模仿”了近40年,却没有成果能够大规模产业化,还能说“时间不够,需要积累”吗?
中国科技界的“权威”们总是以“科技进步要积累,我们发展的时间还短、底子还薄”来为自己的无能来辩护、搪塞。而恰恰相反的是,在科技发展领域,没有“时间、积累”一说,因为世界科技知识体系,在基础理论方面从来都是公开的,每一时期的新技术、新产品,其依赖的基础知识对各国科研人员来说都处在相同的起跑线上,由基础知识到工程化只差一层纸--技术窍门。每一时期的研发过程都不会比上一时期需要更长的时间、更大的难度。比如00年要研发的产品,其时间并不需要把80年、90年时期产品研发再重走一遍。
以外国为例,他们新产品研发、创业的主力军都是刚不毕业不久的博士、硕士、甚至是提早缀学的大学生。他们并不需要把他们老师、老师的老师那时期的工作“跟踪、模仿”一遍,才能着手新产品研发。
举一例,近年中芯国际携手合作的Crossbar公司--最新锐的RRAM(阻变存储器)IP核提供商,成立于2010年,主要技术骨干就是当时刚毕业的博士生,而Crossbar向中芯国际直接提供成熟的IP核,供客户使用。而微电子所在2015年底也向中芯国际提出合作,却是才起步研发,至今仍未能提供成熟的IP核供客户选择,“进展很快”,但就是给不出Ready的时间表。微电子所成立了数十年,而Crossbar只有数年,谁的时间更长?谁的积累更深?何况微电子研究所背靠国家的资金大靠山,非Crossbar背后几个小VC可比。
微电子所上述“成果”,确确实实为有关人士带来了名誉,带来了职称职务,带来了奖金,带来了经费,带来了进一步申请国家科研经费的荣耀资历和权威性,但就是没有为中国芯片产业带来突破发展的希望!
这些项目课题中,用了很多“关键技术”、“核心技术”、“先导研究”等词汇,一来“装”高大上、二来表明立项之初就没有想着要实用,只是“研究研究”。搞科技的人竟变得象文人一样玩弄文字来谋生。
微电子所的所有获奖人员,你们觉得耻辱吗?
给微电子所相关项目立项、拔款、颁奖的官员们,你们觉得内疚吗?
你们掌握着权力,你们成为了权威,但你们“钦点”、接受“御命”的人物成就了什么?你们“御命”研发的成果落地没有?你们一再“相马”,一再“注重过程”,但你们的“马”有哪次领头冲过终点线?你们“注重的过程”哪次结出了公众可享用的果实?
这些“钦点、御命”的个人和机构,总喜欢通过媒体“放卫星”,放一个冲天炮,收获社会的重视和官员的喝彩,再收获得名誉和经费,然后,就没有然后了。
“神龙见首不见尾”呐。
象微电子所一样的“国家队”科研机构何其多,占用了紧缺资金和势位资源,却只能出纸面的成果,还成为打压万众创新的“权威人士”。
三、不知身在何处的科技部
中国的官员,对科技发展一直茫茫然不知所以,近的看前几年,某地方重点项目,花了10亿美元,帮英特尔把过时的生产线搬到大连来继续生产;远的看改革开放早年,一口气买来西方200条化工生产线。中国用于购买过时生产线的钱,都成为外方研发新技术、新工艺的宝贵资金。
还有一例更明显的,当年中国多部委、顶级专家联合论证,买下世界70%的彩色显像管产能时,外方(如日本等国)用这笔甩卖彩管生产线的钱,很快就升级换代技术,新一代的LED屏、等离子屏纷纷面世,中国的彩管屏生产厂一下都傻了眼,事后又花大价钱开始“引进”LED、等离子屏等新技术,但每次引进的都是过时技术,LED第1代至第8代技术,我们何尝能同步获得过最新的技术?
中国的官员和专家那条搪塞的理由:中国底子薄、资金投入不够。而我们买二手设备和过时技术的资金,却在给外方研发新技术供血。外方每波次都能甩掉旧技术和旧设备,换来资金,研发新技术和新设备,继续赚钱,进入不断升级、盈利、再升级的良性循环;而中国每次鼓吹“大发展”最后都成了大出血,付出大量资金,买来过时技术和设备,生产次等、接近淘汰的产品,即使眼看要摊平引进成本时,外方就推出新产品横扫市场,中方只有亏损、失去发展后劲,陷入落后、(花钱)引进、再落后的恶性循环。
可见,中国不是没有钱,而是官员和专家们太傻、太贪、太短视。
退一万步来说,如果中国的科技靠“买”就能解决,那么,科技部的功用是什么呢?
科技部除不遗余力地乱花钱外,对于科研团队的选择,总是“相马”而不是“赛马”。充份市场化的企业,摒弃“相马”、只“赛马”,早成为共识,因为企业耗不起时间、耗不起资金,只对“冲线的马”投入资金,而不会为“相马”付出没底的成本。
科技部也没有超能的“相马”水平,“相”出来的马都是劣马,“钦点、御命”的团队/企业总是不能出活。但科技部长期坚持“相马”的高风险运作方式,其中一个原因在于,只有“相马”方式,他们才觉得对科研资金的把握感--定向输送利益(下文会提及一些案例)。
即使排除利益驱动、让人利令致昏的问题,某些官员和专家短视、静态看待问题。某位令人尊敬的院士在2009年说:“中国芯片业终于能赶上来了,因为工艺线宽已经到了10纳米以下的物理极限,外国人跑不动了”。天啊,这还是出自一位令人尊敬的院士之口。 |
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